来源:科学网 www.sciencenet.cn 发布时间:2012-12-20 15:42:04
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Organic Semiconductors:
Dry Lithography of Large-Area, Thin-Film Organic Semiconductors Using Frozen CO2 Resists (Adv. Mater. 46/2012)

 

图评:很简单精炼的设计,没有用任何的修饰,也没有用任何的比喻。基本材料和一片掀开的表层材料。如果说科学图像的目标是陈述一段事实,那这个图像非常符合陈述的标准。图形学的发展让图形图像软件越来越简单易用,软件的普及让艺术创作的工具变的唾手可得,也让很多人跃跃欲试。相对于其他的图像来说,这张图像是理工科学生,非艺术专业人员最容易学习到的,简单的结构,简单材质,只需要寻找一个适当的构图就可以完成一张封面作品。(服务科学家资源平台供稿)
 
Frozen carbon dioxide can be used as a phase-change resist to perform dry lithography of organic thin films, as shown by Matthias E. Bahlke and co-workers on page 6136. The resist sublimes closest to the surface, separating the still-solid resist that in turn lifts off undesired organic material. This new technique will help address the incompatibility of organic semiconductors with traditional photolithography.
 
 
 
 
 
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