作者:李思辉,姜胜来 来源:中国科学报 发布时间:2025/6/11 15:09:52
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光谷实验室与洪启集成共建“联合研究中心”

 

记者从湖北省科技厅获悉,近日,光谷实验室与洪启集成电路(武汉)有限公司正式宣布共建“先进材料微观表征室企联合研究中心”,双方将在先进微观分析领域,充分利用湖北光谷实验室的在光电融合芯片和微系统领域的创新优势,结合洪启公司的集成电路产业优势,整合光电子技术研发优势与高端检测服务能力,共同攻克芯片和微系统设计、制造、封装全流程的“卡脖子”检测难题。

联合研究中心将重点攻关纳米级缺陷检测、材料成分精准分析、可靠性加速测试、工艺缺陷智能诊断等领域,加速集成电路产业创新技术及产品的应用与产业化。双方将以联合研究中心为依托,重点围绕先进微观分析领域开展科学研究及产学研合作。

双方主要布局尖端球差EELS技术在先进半导体工艺中的研究、基于二次离子质谱在先进硅基半导体材料中的应用研究及基于人工智能在CT电池检测关键技术中的研究与应用等三大领域。

联合研究中心面向产业链上下游开放技术共享平台、联合研发计划等。

 
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