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作者:衣晓峰 王慧颖 好诚 来源:科学时报 发布时间:2009-2-25 0:0:31
研究发现:砷剂可诱导脑胶质瘤细胞凋亡
 
哈尔滨医科大学附属一院神经外科研究人员在“砷剂对脑胶质瘤细胞影响的基因芯片研究及颅内缓释剂型的研发”课题研究中,首次从动物实验角度证实三氧化二砷(As2O3)能诱导脑胶质瘤细胞凋亡;同时自主研制了As2O3脂质体缓释剂,在胶质瘤切除术后直接植入手术区域,实现了脑胶质瘤术后局部缓释化疗。
 
脑胶质瘤是起源于神经外胚层的肿瘤,约占成人颅内恶性肿瘤的70%。该病具有恶性程度高、术后易复发等特点,其复发通常位于原发肿瘤部位,往往在不超过原位置2厘米的范围内发生。因此,有效杀灭残留的肿瘤细胞对改善预后十分必要。
 
As2O3是传统中药砒霜的主要化学成分,已被广泛用于白血病、淋巴瘤的治疗并取得良好疗效。在此基础上,近年来国内外学者开始将这一化学药物应用于胃癌、肝癌、头颈癌、前列腺癌等实体性肿瘤上。哈医大一院神经外科主任赵世光教授指导的科研小组,在前期承担的国家自然科学基金“砷剂对脑胶质瘤的影响及细胞周期蛋白变化机制的研究”课题中,首次发现As2O3可抑制脑胶质细胞系U87MG和T98G的增殖。基于这一进展,课题组又在黑龙江省重大攻关项目经费资助下,继续深入探寻砷剂作用于脑胶质瘤的具体机制,开发具有临床应用价值的间质化疗新剂型。
 
其间,他们率先在脑胶质瘤动物模型上开展了实验研究,证实As2O3以剂量依赖的方式抑制肿瘤细胞增殖并诱导凋亡。同时将As2O3制成粒径为0.25~1微米的单层脂质体,使之更好地透过血脑屏障,提高脑内药物浓度。在使用As2O3脂质体治疗后的大鼠脑胶质瘤组织电镜切片中,可见肿瘤细胞出现细胞凋亡的典型改变,并呈现出明显的剂量—时间依赖性关系。
 
科研小组还采用直接压片法将As2O3与无毒性、无刺激性、具有良好生物相融性的新型降解缓释材料——乙交酯—丙交酯聚合物(PLGA)按比例制成As2O3脂质体缓释剂,于脑瘤切除术后直接植入手术区域,使恶性脑瘤术后局部缓释化疗成为可能。
 
专家评价指出,此项研究成果拓展了As2O3的抗瘤谱及其药用价值,特别是着眼于脑胶质瘤的缓释化学治疗,具有独创性和广阔的临床应用前景。该项成果日前获黑龙江省医药卫生科技进步奖一等奖。
 
《科学时报》 (2009-2-25 A1 要闻)
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